在现阶段，
国产芯片仅能满足日常生产生活的基础要求，高端光刻机无法进入国内，高级芯片生产的困难还是很严峻。
钉子如果想真正解决芯片的问题，第一件需要解决的就是光刻机精度。
“既然不能制造光刻机，那能不能对现有的光刻机制程进行改进？”
罗离忽然有了一个大胆的想法。
众所周知，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，随着科技的进步，极限光源的波长也在不断缩小，从DUV光源的248nm级数不断突破，一直来到现在的13.5nm极紫光束，进步不可谓不大。
这也是现在芯片技术能突破个位数的根本原因。
既然无法从其他资本手中买到高级光刻机，也无法凭空从系统中兑换，那有没有可能通过系统的黑科技技术，将国内现有的光刻机工艺水平提升到世界水平……
思绪至此，罗离的心跳开始加快。
对啊，
改装升级的成本可比从无到有低多了，而且现在国内的芯片工艺也不算太拉胯，要是……
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